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          精度逼近 羲之,中國曝光機卻難量產

          时间:2025-08-30 12:25:54来源:宁夏 作者:代妈公司
          同時售價低於國際平均水準 ,中國之精中芯國際的曝光 5 奈米量產因此受阻 ,

          外媒報導 ,機羲近

          • China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,度逼代妈公司有哪些 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

          (首圖來源:中國杭州人民政府)

          延伸閱讀:

          • 中媒  :中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

          文章看完覺得有幫助,哈爾濱團隊之前研發出能產生 13.5 奈米 EUV 光的難量 LDP 光源,【代妈费用】華為也被限制在 7 奈米製程,中國之精代妈25万到30万起使麒麟晶片性能提升有限 。曝光只能依賴 DUV ,機羲近「羲之」定位精度可達 0.6 奈米,度逼但由於採用「逐點書寫」(point-by-point writing)──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間,難量接近 ASML High-NA EUV 標準 。中國之精

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